半导体生产厂也采用0.1~0.2μm级的滤器过滤光敏抗蚀剂，以去除由装运容器产生的杂质和聚合物不稳定产生的胶体粒子。这些胶体粒子在高压下能通过多空过滤器，因而更难过滤。
光敏抗蚀剂在使用点过滤对于提高成品率至关重要。这种应用的理想过滤器应能去除大于其孔径的粒子，且不增加污染物（粒子或可萃取物）。由于大多数光敏抗蚀剂溶液含有好的聚合物溶剂，因此全部采用氟聚合物结构的滤器为最佳。
由于半导体装置生产期间晶片要用去除粒子水冲洗几次，因而在生产过程中它要与100~100dm3去离子水相接触。由于重复操作，去离子水的质量对于半导体生产的成功操作也至关重要。
在半导体制造用水方面，微过滤设备是去离子水循环系统的主要组成设备，属水处理中的三级处理。三级处理系统的目的是去除循环水中的各种污染物。微量离子由混合床去离子器去除。细菌是有紫外线消毒装置控制，以及定期用消毒剂例如过氧化氢或臭氧进行处理。对于离子水过滤设备的标准要求，是能去除进空系统中存在的任何悬浮粒子，而且不能把悬浮的和溶解的污染物带入已过滤的产品水中。
